赛默飞原子吸收光谱仪3300定位于实验室级别的中高端金属元素分析设备,其设计旨在满足多领域痕量、微量金属元素检测需求。该设备具备火焰法、石墨炉法、氢化物发生法等多种分析技术路径,配备高精度光学系统、智能数据处理模块及强大的背景扣除功能,可广泛适配环境监测、食品安全、制药、水质分析、地矿与材料等领域。
本节内容从仪器组成、关键技术参数、系统配置和可拓展性等方面展开详细介绍。
仪器类型:双光束原子吸收光谱仪(AAS)
分析模式:支持火焰原子化、石墨炉原子化、氢化物发生技术
光路结构:高稳定性Czerny-Turner型单色仪
光学分辨率:0.02nm,全波段自动优化焦距
波长范围:190nm–900nm(紫外到可见区)
波长重复性:±0.02nm
波长准确度:±0.05nm,自动校准系统内置
灯架配置:6位自动旋转型灯架
兼容灯型:空心阴极灯(HCL)与增强型阴极灯(EDL)
灯电流调节:支持0~30mA连续可调,自动设置最优功率
预热控制:自动定时预热及电流控制系统
切换响应时间:<3秒完成灯位与参数切换
探测元件类型:光电倍增管(PMT)
动态响应范围:>10⁶
检测器噪声:<0.0005Abs
信号处理方式:模拟+数字双通道转换系统
信号采样速率:每秒1000次
喷雾器材质:可更换型钛合金或塑料喷雾器
燃烧头类型:100mm标准型/多孔式可选
支持气体种类:
燃气:乙炔、丙烷
助燃气:空气或氧气
火焰稳定性:<0.5%RSD长期波动
火焰保护机制:配备熄火检测、漏气报警、自动熄火
升温速率:最大可达2000℃/秒
最高温度:3000℃(控温精度±1%)
升温阶段控制:最多支持10段升温程序
气流控制:自动切换惰性气(Ar)吹扫和保护
进样体积范围:1~50μL,配套自动进样器可微量控制
适用元素:As、Se、Sb、Bi、Sn、Pb等
进样方式:在线气液混合、气液分离一体系统
反应效率:高灵敏气相富集通道,增强信号吸收
气路控制:软件自动调节反应流速及负压负载
背景扣除方式:
氘灯背景校正(D₂)
塞曼效应背景校正(适用于石墨炉)
背景校正线性范围:0–2Abs
响应速度:<1s
校正误差:小于±0.005Abs
该系统能有效处理化学背景干扰、溶剂发射干扰及散射干扰,特别适用于复杂基体样品分析。
控制软件系统:Thermo Scientific SOLAAR 或专属定制平台
操作系统兼容性:Windows 10 / 11 64位
支持功能:
元素分析方法预设及自定义
自动标定曲线拟合(线性、多段、曲线等)
自动样品序列运行与报告导出
数据追踪、质控监测、权限分级
输出格式:CSV、PDF、Excel、LIMS兼容格式
曲线类型:线性/对数线性/分段回归等
报告内容:吸光度、浓度、检出限、偏差、回收率、信号曲线等
质控功能:
加标回收率分析
空白样监测
曲线漂移自动报警
USB端口:支持≥4路,用于灯控制、打印设备、自动进样器
串口/以太网口:连接LIMS系统或实验室自动化平台
可扩展模块:连接自动稀释系统、自动进样器、气相富集装置、温控单元等
自动进样器容量:最多可支持120位样品盘
软件控制方式:一键加载方法、参数自匹配、定时运行
多任务管理:支持多个项目并行排队执行
温度:15–35℃
湿度:20%–80%相对湿度(无冷凝)
电源要求:220V±10%,50Hz,最大功率3000W(含石墨炉)
气源要求:
空气压缩机或空气泵
乙炔气源需稳压控制
氩气纯度≥99.99%(用于石墨炉)
噪音水平:<65dB(典型值)
尾气排放:支持尾气吸附系统对接排风系统,防止有害气体泄露
软件层安全设计:
操作员权限设定
分级登录与数据防篡改机制
硬件层安全设计:
火焰熄灭自动关闭燃气
石墨炉过温保护
电气短路自动断电
维护便捷性:
喷雾器与燃烧头可快速拆卸清洗
自动提示灯更换与喷嘴维护周期
软件预设校准、清洗、验证步骤
技术参数类别 | 指标说明 |
---|---|
波长范围 | 190–900nm |
波长准确度 | ±0.05nm |
光学分辨率 | 0.02nm |
火焰温度范围 | 2300℃–2800℃ |
石墨炉控温精度 | ±1%(升温阶段) |
背景扣除方式 | 氘灯与塞曼双系统 |
检测限(火焰) | ≤2μg/L(Pb、Cd等) |
检测限(石墨炉) | ≤0.2μg/L(As、Hg等) |
分析速度 | 火焰法≤10s/样品,石墨炉≤60s |
重复性(RSD) | <1.5% |
自动化进样 | 支持全自动序列控制与清洗 |
数据接口格式 | CSV、LIMS、PDF、EXCEL |
从整体性能与技术指标来看,赛默飞3300原子吸收光谱仪是一款兼具灵敏度、通用性与稳定性的实验级设备。其波长范围广、原子化模式多样、数据处理智能、背景修正能力强,特别适合以下场景:
高通量检测实验室:快速切换元素、稳定输出结果;
痕量金属监测场景:配合石墨炉和塞曼校正,检出限优异;
复杂基体样品分析:背景扣除系统提升数据可靠性;
日常质量控制与科研应用:多任务管理与质控流程兼备。
其配置支持多项扩展模块连接与软件智能升级,为实验室实现自动化与高效能打下坚实基础。
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