一、概述
很多用户在使用 IX71 倒置荧光显微镜时会问:暗场能不能用?答案是“可以,但要看你要做的是哪一种暗场,以及现有配置是否具备相应的暗场附件”。暗场的核心原理是让直射光不进入物镜,只有被样品散射或衍射的光进入成像系统,因此背景呈暗、散射体呈亮。暗场常用于观察透明样品的边缘、颗粒、细微划痕、微生物与悬浮颗粒等。IX71 作为倒置平台,理论上可以实现透射暗场(Transmitted Darkfield)或反射暗场(Reflected Darkfield)中的某些形式,但需要合适的聚光镜/暗场环、物镜匹配,以及对样品容器的适配。若仅靠普通明场聚光镜和标准物镜,暗场效果往往不理想或无法形成典型暗场背景。
二、主要特点(暗场在倒置平台上的表现)
1)能用但“依赖配件”
暗场不是一个软件按钮就能实现的模式,它需要暗场光学条件:暗场聚光镜或暗场环形光阑、合适的数值孔径匹配,以及相对干净的光路与样品底面。
2)更适合“散射/颗粒类”目标
暗场对微粒、细丝、细菌、微泡、污染物、微裂纹等散射信号敏感;对厚样、强吸收样或本身散射弱的结构,可能效果有限。
3)倒置结构对样品容器更友好,但也更挑底面质量
培养皿、多孔板等容器便于放置;但底部材质、厚度一致性和洁净度会显著影响暗场背景纯净度,容易出现灰雾或杂散光。
4)可与荧光互补,而非替代
暗场强调散射轮廓,荧光强调标记定位。两者结合可提升目标发现效率:先暗场快速找颗粒或结构位置,再切荧光确认标记或成分。
三、能否实现暗场:判断与配置思路
1)透射暗场(最常被询问的一类)
透射暗场需要在透射照明端形成“中空锥形光”,使直射光绕开物镜 NA。对 IX71 来说,关键在于是否有:
支持暗场的聚光镜或可插入的暗场环形光阑组件;
与之匹配的物镜 NA(暗场通常要求聚光侧 NA 大于物镜 NA);
合适的样品厚度与清洁底面。
结论:如果你有暗场环/暗场聚光镜并且物镜匹配,透射暗场可以实现;若没有暗场光阑或聚光镜组件,仅用普通明场聚光镜通常难以获得标准暗场效果。
2)反射暗场/侧向暗场(适合表面与颗粒观察)
反射暗场更常用于表面微结构、划痕、薄膜颗粒等,照明与成像在同侧。倒置平台在某些场景可用侧向环形光源、斜照明等方式获得“暗背景+亮散射”的类似效果。
结论:对材料表面、底部沉积颗粒等,采用斜照明或环形侧光往往比硬件透射暗场更容易实现,也更实用。
3)用相差/ DIC 替代暗场的情况
如果你的目标是看透明细胞轮廓、细胞器边界或弱对比结构,而不是颗粒散射,许多情况下相差或 DIC 的稳定性与可操作性更好。
结论:细胞培养常规观察,优先相差;颗粒/污染/微泡或极弱散射目标,暗场更有优势。
四、应用实例(暗场在 IX71 上的典型用途)
实例1:培养液污染物与微颗粒排查
细胞培养过程中怀疑有微粒污染、微泡或沉积物。暗场可让这些散射体在暗背景下变得非常醒目,便于快速定位来源(移液枪头碎屑、塑料屑、结晶盐粒等)。
实例2:微生物与悬浮体观察
对某些细菌、微藻或微小悬浮体,暗场能突出边缘散射,提高发现概率;再配合相差或荧光标记进行确认。
实例3:微流控芯片中的颗粒流动
在微流控通道中观察微珠、气泡、沉积或堵塞点。暗场对颗粒散射敏感,适合做“是否存在、在哪里、怎么移动”的快速判读。
实例4:材料底面颗粒与划痕检测
在培养皿底或玻璃底表面出现划痕、颗粒附着时,暗场或斜照明更容易把缺陷凸显出来,为后续清洁、工艺调整或质量判定提供依据。
五、使用要点与常见问题
背景发灰:多由容器底面不洁、杂散光或 NA 不匹配引起;清洁底面、检查光阑位置与聚光镜对中很关键。
“怎么调都不黑”:通常是缺少暗场环/暗场聚光镜,或物镜 NA 过大导致直射光仍进入物镜。
亮点太多像噪声:暗场对灰尘极敏感,物镜前端、滤片、容器底部的微尘都会被放大呈现。
与荧光切换:暗场靠透射或反射照明,荧光靠激发/发射滤光组件;切换时注意光路选择与相机参数固定,避免误判为信号变化。
六、总结
IX71 倒置荧光显微镜可以使用暗场,但效果取决于是否具备暗场所需的光学条件与附件,并且更适合颗粒散射、污染排查、微流控颗粒运动与表面缺陷等场景。如果你主要观察活细胞形态,相差往往更高效;如果你的目标是“找微粒、找微泡、看细微散射结构”,暗场(或斜照明类的暗场效果)会非常有价值。
如果你告诉我你现在的样品类型(细胞/颗粒/微流控/材料表面)以及你手头有没有暗场环或暗场聚光镜附件,我也可以把“如何配置与调节”的步骤写成更具体的操作清单。









